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一种石墨烯薄膜的制备方法与流程
本发明提出了一种石墨烯的制备工艺,在材料学、微纳电子学等领域具有应用前景。
石墨烯具有的结构和优异的性能,近年来在石墨烯的制备上已取得了不少重要进展。目前石墨烯主要通过化学方法来制备,常用的方法有晶体外延生长法,氧化还原法和化学气相沉积法(cvd),面膜代工贴牌厂,其中cvd法是近年来发展迅速的制备石墨烯的方法,得到的石墨烯高、面积大,逐渐成为制备高石墨烯的主要方法。
cvd法主要利用金属铜箔作为催化剂来制备石墨烯,其基本原理是:或等碳源气体在高温下裂解,并在铜箔催化剂表面生成石墨烯,然后转移至绝缘衬底表面。通常cvd法制备的石墨烯薄膜需要转移到目标衬底表面。转移时,先旋涂上一层胶(例如pmma)保护薄膜,再用腐蚀溶液(例如feno3,fecl3)腐蚀金属铜箔。此过程中需要使用腐蚀性溶剂,金属铜也被溶解到溶液中变成铜金属离子,变成了废液。如要再变成金属铜需要对含铜离子的溶液进行进一步的处理(例如,采用置换反应置换出铜)。
由此可以看出传统的石墨烯转移工艺副产物多,成本高。
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